โครงสร้างของซิงค์ออกไซด์

โครงสร้างผลึกของซิงค์ออกไซด์อยู่ในโครงสร้างเวิร์ตไซต์หกเหลี่ยม และพารามิเตอร์ของเซลล์หนึ่งหน่วยคือ =0.3253 นาโนเมตร และ c=0.5207 นาโนเมตร ผลึกซิงค์ออกไซด์มีคุณสมบัติเซมิคอนดักเตอร์ การเรืองแสง เพียโซอิเล็กทริก อิเล็กโทรออปติก และการแวววาว ดังนั้นจึงมีการใช้กันอย่างแพร่หลายในวัสดุเรืองแสงอัลตราไวโอเลต วัสดุพื้นผิวการสื่อสารเคลื่อนที่ และวัสดุแวววาวที่เร็วมาก นอกจากนี้ ความไม่ตรงกันของโครงข่ายระหว่างซิงค์ออกไซด์และแกลเลียมไนไตรด์ยังมีน้อย ทำให้เป็นวัสดุตั้งต้นในอุดมคติสำหรับการเติบโตของแกลเลียมไนไตรด์ที่เยื่อบุผิว พันธะเคมีในผลึกซิงก์ออกไซด์มีทั้งส่วนประกอบของพันธะไอออนิกและโควาเลนต์ ซึ่งทำให้โครงสร้างผลึกเปลี่ยนแปลงได้ง่ายขึ้นภายใต้เงื่อนไขบางประการ